Analyse physikalischer Schäden an der galvanisierten Kupferoberfläche von Leiterplatten?
Eine Nachricht hinterlassen
Physische Schäden an der galvanisierten Kupferoberfläche von Leiterplatten sind ein komplexes Problem, an dem mehrere Prozesse und Faktoren beteiligt sind. Im Folgenden finden Sie eine detaillierte Analyse der physikalischen Schäden an der galvanisierten Kupferoberfläche von Leiterplatten:
1. Schadensarten und -ursachen:
① Mechanischer Schaden: Während des Leiterplattenherstellungsprozesses kann unzureichende Sauberkeit beim Be- und Entladen der Maschine, beim Laminieren und beim Laminieren zu Dellen und Epoxidflecken auf der Kupferoberfläche führen. Dieser mechanische Schaden kann zum Ablösen des Fotolacks, zu Kurzschlüssen und zu Lückenproblemen führen.
② Chemische Schäden: Bei Prozessen wie Kupferabscheidung und Musterübertragung können chemische Reaktionen zu Oberflächenrauheit, Kupferpartikeln und Grübchen führen. Beispielsweise kann die unsachgemäße Verwendung von alkalischen Entfettungsmitteln oder minderwertigen Mikroätzmitteln zu Oberflächenrauheit und Rauheit in Löchern führen.
2. Spezifische Schadenssymptome:
① Oberflächenrauheit: Diese tritt häufig an den Ecken der Platine auf und kann durch einen zu hohen Galvanisierungsstrom verursacht werden. Durch Reduzieren des Stroms und Überprüfen auf Anomalien kann dieses Problem behoben werden.
② Kupferpartikel: Dies kann durch Kupferablagerung, Musterübertragung oder den Galvanisierungsprozess selbst verursacht werden. Zu den Lösungen gehören die Anpassung von Prozessparametern und die Verbesserung der Badreinheit.
③ Dellen: Diese können während des Kupferabscheidungsprozesses, der Musterübertragung, der Vorbehandlung, der Trommelbeschichtung und der Elektroverzinnung auftreten. Auch eine unsachgemäße Reinigung des Kupferabscheidekorbs und eine unsachgemäße Wartung der Musterübertragungsgeräte können zu Dellen führen.
3. Vorbeugende Maßnahmen:
① Durch die Verwendung von Trennpapier oder einer Wanne zur Aufrechterhaltung der Oberflächentrennung, die Kontrolle des Epoxidharzstaubs und die Verwendung von Formtrennmitteln können mechanische Schäden wirksam reduziert werden.
② Stellen Sie während des Kupferabscheidungsprozesses eine gründliche Entfettung sicher und vermeiden Sie eine alkalische Entfettung und eine Kontamination durch Übertragungsdämpfe, um chemische Schäden zu minimieren.
③ Verstärken Sie das Wasserwaschen, die Prozessschritte und die Säureentfettung, um Kleberreste oder Oxidation nach der Musterübertragung zu verhindern.
4. Verbesserungsmaßnahmen:
① Durch die Verbesserung von Geräten, Vorrichtungen und Produktionsmethoden kann die Entstehung von PCB-galvanisierten Kupferpartikeln wirksam kontrolliert werden. Stellen Sie beispielsweise beim stromlosen Kupferabscheidungsprozess die Sauberkeit während der Entfettungs-, Mikroätz- und Aktivierungsschritte sicher.
② Achten Sie während des Musterübertragungsprozesses auf eine gründliche Reinigung nach der Entwicklung, um Oxidation und Kontamination zu vermeiden.
Physische Schäden an der galvanisierten Kupferoberfläche von Leiterplatten werden hauptsächlich durch mechanische und chemische Faktoren verursacht. Eine strikte Prozesskontrolle und Geräteverwaltung können diese Schäden wirksam reduzieren. Für Produktionsbetreiber ist das Verständnis der Schadensursachen und das Ergreifen geeigneter vorbeugender Maßnahmen der Schlüssel zur Verbesserung der Produktqualität.








