Mehrteilige bewegliche Galvanik-Fahrzeugplattform für elektrothermisches Rohrgalvanisierungssystem mit chemischer Gasphasenabscheidung
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Mehrteilige bewegliche Galvanik-Fahrzeugplattform für elektrothermisches Rohrgalvanisierungssystem mit chemischer Gasphasenabscheidung
Eine mehrteilige bewegliche Galvanisierungsplattform für das chemische Gasphasenabscheidungssystem wird zum Montieren mehrerer zu galvanisierender Substrate verwendet, einschließlich eines Rahmens, mehrerer auf dem Rahmen angeordneter Lagersitze, einer auf dem Lagersitz angeordneten Elektrodenplatteneinheit und einer angeordneten isolierenden oberen Abdeckung auf der Elektrodenplatteneinheit. Durch Entfernen der mehrteiligen beweglichen Galvanik-Fahrzeugplattform vom externen Teil des Systems zur chemischen Gasphasenabscheidung und Durchführung unabhängiger Heizvorgänge im Voraus können die Elektrodenplatteneinheit und das zu plattierende Substrat, die auf der mehrteiligen beweglichen Galvanik-Fahrzeugplattform angeordnet sind, gleichmäßig erhitzt werden , und das Problem der ungleichmäßigen Erwärmung und langsamen Erwärmung im vorherigen Erwärmungsprozess im System zur chemischen Gasphasenabscheidung kann verbessert werden. Daher kann die Galvanisierungsausbeute verbessert werden. Durch die Verkürzung der Aufheizzeit können die Gesamtbetriebskosten gesenkt werden.
Ein Verfahren zum Galvanisieren von Kupfer in Halbleitervorrichtungen, umfassend die Schritte: Platzieren eines Substrats in einer Galvanisierungsvorrichtung; Bereitstellen eines ersten Galvanisierungsstroms, um eine erste Galvanisierungsbehandlung auf dem Substrat durchzuführen; Bereitstellen eines zweiten Galvanisierungsstroms, um eine zweite Galvanisierungsbehandlung auf dem Substrat durchzuführen, und der zweite Galvanisierungsstrom größer als der erste Galvanisierungsstrom ist; Bereitstellen eines dritten Galvanisierungsstroms, um eine dritte Galvanisierungsbehandlung auf dem Substrat durchzuführen, und der dritte Galvanisierungsstrom größer als der zweite Galvanisierungsstrom ist; Bereitstellen eines vierten Galvanisierungsstroms, um eine vierte Galvanisierungsbehandlung auf dem Substrat durchzuführen, und der vierte Galvanisierungsstrom ist größer als der dritte Galvanisierungsstrom. Das Kupfer-Galvanisierungsverfahren der vorliegenden Erfindung verwendet ein vierstufiges Galvanisierungsverfahren, das sowohl die Anforderungen an die Füllqualität als auch an die Produktionseffizienz berücksichtigt.
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