Die durch Vakuumversilberung hergestellte Schaltungsmaske verwendet einen Chromfilm
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Die durch Vakuumversilberung hergestellte Schaltungsmaske verwendet einen Chromfilm
Antireflexionsbeschichtungen werden in großen Mengen für Fotografie und Laser aller Art verwendet – bis hin zu den großen, beschichteten Fensterscheiben von Neubauten, die dringend benötigt werden. Antireflexionsbeschichtungen werden häufig auf Objektiven von Foto- und Fernsehkameras verwendet.
Vakuumbeschichtung spielt in der Elektronik eine wichtige Rolle. Nachfolgeschaltungen aller Größenordnungen. Leitfähige Filme, Isolierfilme und Schutzfilme sollten für Speicher, Recheneinheiten und logische Elemente verwendet werden. Als Maske für die Herstellung von Schaltkreisen wird eine Chromfolie verwendet. Magnetfluss, Magnetscheiben-Halbleiterlaser, Josephson-Gerät und ladungsgekoppeltes Gerät (CCD) verwenden ebenfalls verschiedene Dünnfilme.
Die Hochfrequenz-Magnetron-Sputter-Stromversorgung für die Vakuumversilberung ist teuer und die Sputterrate ist sehr gering
Auf diese Weise wird das Targetmaterial zu einem Kondensator im Isolierkreis.
Allerdings ist die Hochfrequenz-Magnetron-Sputter-Stromversorgung teuer, die Sputterrate ist sehr gering und die Erdungstechnologie ist sehr kompliziert, so dass es schwierig ist, sie in großem Maßstab einzusetzen. Um dieses Problem zu lösen, wurde das reaktive Magnetronsputtern erfunden. Das heißt, es wird ein Metalltarget verwendet und Argon und ein reaktives Gas wie Stickstoff oder Sauerstoff hinzugefügt. Wenn das Metallziel
Beim Auftreffen auf das Teil verbindet es sich durch Energieumwandlung mit dem reaktiven Gas und bildet Nitride oder Oxide.
Vakuumversilberung Das Sputtern von Metallen und Legierungen mit Magnetron-Targets ist einfach
Die Zielquelle ist in symmetrische und unsymmetrische Typen unterteilt. Die ausgeglichene Zielquelle hat eine gleichmäßige Beschichtung und die unsymmetrische Zielquellenbeschichtung weist eine starke Bindungskraft mit dem Substrat auf. Symmetrische Targetquellen werden meist für optische Halbleiterfolien verwendet, und unsymmetrische Targets werden meist für dekorative Verschleißfolien verwendet.
Unabhängig von Gleichgewicht und Nichtgleichgewicht bestimmen seine Magnetfeldeigenschaften, wenn der Magnet stationär ist, dass die Zielauslastung im Allgemeinen weniger als 30 Prozent beträgt. Um die Ausnutzungsrate des Targetmaterials zu erhöhen, kann ein rotierendes Magnetfeld verwendet werden. Das rotierende Magnetfeld erfordert jedoch einen Drehmechanismus und gleichzeitig soll die Sputterrate reduziert werden. Rotierende Magnetfelder werden meist für große oder teure Anwendungen eingesetzt
Schweres Ziel. Wie zum Beispiel das Sputtern von Halbleiterfilmen. Für kleine Geräte und allgemeine Industriegeräte wird häufig die statische Magnetfeldzielquelle verwendet.
Mit Magnetron-Targetquellen lassen sich Metalle und Legierungen leicht zerstäuben, und Zündung und Zerstäubung sind bequem. Dies liegt daran, dass das Target (Kathode), das Plasma und die Vakuumkammer des gesputterten Teils einen Stromkreis bilden können. Wenn jedoch Isolatoren wie Keramik gesputtert werden, wird der Stromkreis unterbrochen.
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