Vakuumverchromungsverfahren

Vakuumverchromungsverfahren

 

Das Werkstück wird mit Wasser gewaschen. Hänger{0}}Reinigung-Trocknung---Inspektion---oberer Vakuumbügel---im Ofen, Galvanik---aus dem Ofen{{6 }}Herunterhängende---Inspektion---Verpackung

Vakuumverchromung mittels Strahlabscheidung

 

Vakuumwalzenbeschichtung

 

Bei der Vakuumwalzenbeschichtung handelt es sich um eine kontinuierliche Beschichtungstechnologie auf flexiblen Substraten durch physikalische Gasphasenabscheidung, um einige funktionelle und dekorative Eigenschaften flexibler Substrate zu erzielen.

 

 

 

Als nächstes folgt die chemische Gasphasenabscheidung (CVD). Der Film entsteht durch chemische Reaktion. Das Prinzip besteht darin, dass bei einer bestimmten Temperatur das Reaktionsgas, das das filmbildende Material enthält, zum Substrat geleitet und adsorbiert wird und auf dem Substrat eine chemische Reaktion zur Bildung eines Kerns erzeugt wird und dann das Reaktionsprodukt von der Oberfläche getrennt wird des Substrats kontinuierlich. Diffusion zur Bildung eines dünnen Films.

 

Die Strahlabscheidungsplattierung, eine Ionenoberflächen-Verbundbehandlungstechnologie, die Ionenimplantation und Dampfabscheidungsbeschichtungstechnologie kombiniert, ist eine Technologie, die ionisierte Partikel als Verdampfungsmaterialien verwendet, um dünne Filme mit guten Eigenschaften bei relativ niedrigen Substrattemperaturen zu bilden. .

Drei Methoden der Vakuumverchromung

Vakuumverdampfung

 

Das Prinzip besteht darin, die verdampfte Substanz mit einem Verdampfer zu erhitzen, um sie unter Vakuumbedingungen zu verdampfen oder zu sublimieren. Der verdampfte Ionenstrom wird direkt auf das Substrat geschossen und der feste Film wird auf dem Substrat abgeschieden.

 

Sputterbeschichtung

 

Bei der Sputterbeschichtung wird unter Vakuumbedingungen eine 2000-V-Hochspannung an die Kathode angelegt, um die Glimmentladung zu stimulieren. Positiv geladene Argonionen treffen auf die Kathode und schleudern Atome aus. Die gesputterten Atome werden durch eine inerte Atmosphäre auf dem Substrat abgeschieden, um eine Filmschicht zu bilden. .

 

Ionenbeschichtung

 

Das heißt, die Vakuumionenbeschichtung, die der Hersteller trockener Schraubenvakuumpumpen eingeführt hat. Es wurde auf Basis der beiden oben genannten Vakuumbeschichtungstechnologien entwickelt und weist daher die Prozesseigenschaften beider auf. Unter Vakuumbedingungen wird das Arbeitsgas oder das verdampfte Material (Filmmaterial) durch Gasentladung teilweise ionisiert und das verdampfte Material oder sein Reaktant wird unter Ionenbeschuss auf der Oberfläche des Substrats abgeschieden. Während der Filmbildung wird das Substrat stets von hochenergetischen Partikeln beschossen und ist sehr sauber.

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