Vakuum oder Schutzatmosphäre
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Vakuum oder Schutzatmosphäre
Mit der Entwicklung von Mikrowellen-Hybrid-integrierten Schaltkreisen hin zu hoher Leistung, hoher Zuverlässigkeit, hoher Gleichmäßigkeit und niedrigen Kosten sind die Anforderungen an die Chip-Löttechnologie immer höher geworden, was auch extrem hohe Anforderungen an die Ausrüstung zur Realisierung der Chip-Löttechnologie mit sich bringt. Vakuum-Eutektikumöfen sind ein wichtiges Gerät in der Mikroelektronikindustrie, das das eutektische Prinzip zum Schweißen unter Vakuum oder Schutzatmosphäre nutzt. Entsprechend den eutektischen Eigenschaften des geschweißten Objekts kann die Prozesskurve eingestellt werden, in einer Inertgas- oder Vakuumumgebung erhitzt werden, um die eutektische Temperatur zu erreichen, für einen bestimmten Zeitraum aufrechterhalten und dann aufgeblasen und abgekühlt werden, um den Zweck des eutektischen Schweißens zu erreichen. Es kann die eutektische Umgebung im Ofenhohlraum genau steuern, einschließlich Temperatur, Vakuumgrad, Gasdurchflussrate und Zeit.
Die Heizmethode des eutektischen Ofens besteht darin, einen Quarzlampen-Infrarotstrahler zur Strahlungsheizung zu verwenden. Infrarotheizung hat die Eigenschaften, dass sie sowohl innen als auch außen gleichzeitig heizen kann, eine starke Durchdringung, schnelle Erwärmung und geringe thermische Verzögerung bei schneller Wärmeaustauschrate aufweist. Wenn Infrarotstrahlung ein erhitztes Objekt erreicht, dringt ein Teil der Strahlung durch. Wenn das erhitzte Objekt diesen Teil der Infrarotwärmeenergie absorbiert, schwingen die Moleküle und Atome im Inneren des erhitzten Objekts, was die Temperatur des erhitzten Objekts erhöhen und den Heizzweck erreichen kann. Bei dieser Heizmethode ist es wichtig, die Infrarotwellenlänge an die Wellenlänge des erhitzten Objekts anzupassen. Das heißt, wenn die auf das Objekt abgestrahlte Infrarotfrequenz mit der Schwingungsfrequenz der Materialmoleküle übereinstimmt, aus denen das Objekt besteht, schwingen die Moleküle und absorbieren die Infrarotstrahlungsenergie. Gleichzeitig wird durch die Energieübertragung zwischen den Molekülen die intramolekulare Energie erhöht, was zu einer Erhöhung der Temperatur des Objekts führt.
Es gibt viele Faktoren, die die Temperaturgleichmäßigkeit von Vakuum-Eutektikumöfen beeinflussen, vor allem die Anordnung der Quarzlampen-Infrarotstrahler im Ofenraum, die Leistungsverteilung eines einzelnen Quarzlampen-Infrarotstrahlers, der Abstand zwischen dem Quarzlampen-Infrarotstrahler und dem erhitzten Objekt und die Eigenschaften der vom erhitzten Objekt absorbierten Wellenlänge. Eine genaue Kontrolle der Prozessumgebung und eine sichere Verwendung machen es zu einem idealen Gerät für das eutektische Schweißen. Die Verbesserung der Temperaturgleichmäßigkeit und der Abkühlrate ist der Schlüssel zur Verbesserung der Geräteleistung.
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