Grundaufbau einer horizontalen Galvanikanlage für elektrische Heizrohre
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Grundaufbau einer horizontalen Galvanikanlage für elektrische Heizrohre
Die Methode zum Platzieren der Leiterplatte wird von vertikal auf parallel zum Plattierungsflüssigkeitsspiegel geändert. An dieser Stelle ist die Leiterplatte die Kathode, gemäß den Eigenschaften der horizontalen Galvanik. Einige horizontale Galvaniksysteme verwenden zwei Arten von Stromzufuhrmethoden: leitende Clips und leitende Rollen. Aus der Perspektive der Bequemlichkeit des Betriebssystems ist es üblich, leitende Zufuhrverfahren mit Rollen zu verwenden. Die leitfähige Walze in der horizontalen Galvanikanlage dient nicht nur als Kathode, sondern hat auch die Funktion, Leiterplatten zu transportieren. Jede leitfähige Walze ist mit einer Federvorrichtung ausgestattet, die den Anforderungen der Galvanisierung unterschiedlicher Dicken von Leiterplatten ({{0}}.10-5.00 mm) gerecht wird. Während des Galvanisierens können jedoch alle Teile, die mit der Galvanisierungslösung in Kontakt kommen, mit Kupfer beschichtet werden, und das System wird für lange Zeit nicht funktionieren. Daher sind die meisten derzeit hergestellten horizontalen Galvanisierungssysteme mit Kathoden konstruiert, die zu Anoden umgeschaltet werden können, und ein Satz Hilfskathoden kann verwendet werden, um das Kupfer auf den plattierten Walzen zu elektrolysieren und aufzulösen. Für Wartungs- oder Austauschzwecke berücksichtigt das neue Galvanikdesign auch verschleißanfällige Bereiche für einen einfachen Ausbau oder Austausch. Die Anode ist ein unlöslicher Titankorb mit einstellbarer Anordnungsgröße, der separat auf der oberen und unteren Position der Leiterplatte platziert wird und ein kugelförmiges lösliches Kupfer mit 25 mm Durchmesser und einem Phosphorgehalt von 0,004-0,006 Prozent enthält . Der Abstand zwischen Kathode und Anode beträgt 40 mm.
Die Galvanisierungslösung fließt schnell in einem geschlossenen Galvanikbad abwechselnd hin und her, auf und ab. Der Fluss der Beschichtungslösung wird durch ein System erreicht, das aus einer Pumpe und einer Düse besteht. Und es kann die Gleichmäßigkeit des Plattierungslösungsflusses sicherstellen. Die Beschichtungslösung wird vertikal auf die Leiterplatte gesprüht und bildet einen Wandspülstrahlwirbel auf der Leiterplattenoberfläche. Das ultimative Ziel ist es, einen schnellen Fluss der Beschichtungslösung auf beiden Seiten der Leiterplatte und durch die Löcher zu erreichen, wodurch Wirbelströme entstehen. Darüber hinaus ist der Tank mit einem Filtersystem ausgestattet, das mit einer Maschenweite von 1,2 Mikrometern Partikelverunreinigungen herausfiltert, die während des Galvanisierungsprozesses entstehen, und so die Sauberkeit und schadstofffreie Beschichtungslösung gewährleistet.
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