Chemisches Spray für die Vakuumgalvanisierung elektrischer Heizrohre
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Chemisches Spray für die Vakuumgalvanisierung elektrischer Heizrohre
Spray ist sehr effektiv zum Reinigen, es kann den größten Teil des Öls und der Verunreinigungen vom Werkstück entfernen.
Vier Faktoren der Vakuumgalvanisierung elektrischer Heizrohre beeinflussen die Reinigungsqualität
Dies sind: Reinigungszeit, chemisches Mittel, mechanische Wirkung und Temperatur der Reinigungsflüssigkeit. Diese vier Faktoren beeinflussen sich auch gegenseitig. Die Abschwächung eines Faktors kann durch eine Verstärkung der Wirkung der anderen drei Faktoren ausgeglichen werden und umgekehrt. Unter diesen vier Faktoren ist auch die Minimierung der Reinigungszeit das Ziel, wodurch die Reinigungseffizienz verbessert werden kann. Verkürzen Sie die Produktions- und Vorlaufzeit.
Die wichtigsten Reinigungsmethoden und -schritte sollten Folgendes umfassen: chemisches Sprühen, chemisches Eintauchen und Ultraschallreinigung, Spülen und Trocknen.
Vakuumgalvanisierung elektrisches Heizrohr aus ultrahochreinem Metall
Hochreine Metalle und Sputtertargets sind ein wichtiger Bestandteil elektronischer Materialien. Die Industriekette für Sputtertargets umfasst hauptsächlich Metallreinigung, Targetherstellung, Sputterbeschichtung und Terminalanwendungen. Darunter die Herstellung von Targets und die Sputterbeschichtung. Das Glied ist das Schlüsselglied in der gesamten Kette der Sputtertarget-Industrie.
Bei der vorgeschalteten Metallreinigung werden hauptsächlich die wichtigsten Metallerze der Natur gereinigt. Das allgemeine Metall kann eine Reinheit von 99,8 Prozent erreichen, und das Sputtertarget muss eine Reinheit von 99,999 Prozent erreichen.
Die beim Vakuumgalvanisieren von elektrischen Heizrohren verwendeten Rohstoffe sind unterschiedlich
Je nach den verschiedenen verwendeten Rohstoffen können Sputtertargets in Metall-/Nichtmetall-Elementartargets, Legierungstargets, Verbundtargets usw. unterteilt werden. Der Sputterbeschichtungsprozess weist eine gute Wiederholbarkeit und kontrollierbare Filmdicke auf und kann einen dünnen Film mit gleichmäßiger Dicke erzeugen auf einem großflächigen Trägermaterial erzielt werden. Es hat sich zu einer der Haupttechnologien zur Herstellung von Dünnschichtmaterialien entwickelt. Verschiedene Arten von Sputter-Dünnschichtmaterialien sind weit verbreitet. Daher steigt die Nachfrage nach Sputtertargets, einem funktionellen Material mit hohem Mehrwert, von Jahr zu Jahr, und Sputtertargets haben sich auch zum am häufigsten verwendeten PVD-Beschichtungsmaterial auf dem Markt entwickelt.
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